▲ 출처=대통령실  © 특허뉴스

5월27일 개최된 제9차 한·일·중 정상회의에서, 윤석열 대통령, 기시다 후미오 일본국 총리, 리창 중화인민공화국 총리 등 3국 정상이 ‘지식재산 협력 10년 비전’을 공동선언의 부속문서로 채택하고, 향후 지식재산분야 협력을 보다 강화하기로 했다.  

동(同) 10년 비전에는 ▲인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 신기술의 발전을 촉진하고 포용할 수 있는 지식재산 시스템 구축, ▲대학, 연구기관, 기업 등 민간의 연구개발(R&D)을 효과적으로 지원하고 장려하기 위한 특허데이터의 주기적인 교환과 대민접근성 제고, ▲3국 간 협력성과를 다른 국가 또는 아세안 등 지역기구와 공유하기 위한 ‘3국+X(Trilateral+X)’ 추진 등 3대 미래협력방향이 담겨 있다. 

한·일·중은 지식재산분야 강국으로 3국의 특허출원은 2022년 기준 전 세계의 약 62%를 차지하고 있으며, 지식재산분야 협력은 3국의 견고한 협력관계를 상징하는 대표적인 모델로 자리매김해 왔다. 

특히, 3국 특허청장 회의는 2001년에 정례화 된 이후, 코로나19의 확산 등 어려운 상황 속에서도 작년 대한민국이 주최한 제23차 청장회의까지 매년 개최되어  왔으며, 상표·디자인 분야 심사, 심판, 지식재산교육 등 분야별 실무회의체를 통해 다양한 협력 사업이 추진 중에 있다. 또한, 발명가, 기업 등 지식재산 서비스 사용자들과의 긴밀한 소통을 위해 2013년부터는 3국 특허청장회의의 부대행사로 유저 심포지움(User Symposium)도 개최되고 있다. 

이번 정상회의를 계기로, 한·일·중 3국은 ‘지식재산 협력 10년 비전’의 3대 협력목표 추진을 위해 보다 긴밀히 협력해 나갈 것으로 기대된다. 

김시형 특허청장 직무대리는 “4년 5개월 만에 한국에서 개최된 한·일·중 정상회의에서 지식재산분야의 미래협력방향이 채택된 것은 3국의 혁신기반 경제발전에 큰 의미가 있다”면서 “향후 구체적인 결실이 맺어질 수 있도록 일본 및 중국특허청과 긴밀히 협력해 나가겠다”고 밝혔다.