반도체 특허 심사 기준 공개... 지식재산처 “심사 예측 가능성 높인다”

‘반도체 특허 심사실무가이드’ 제정... EUV·HBM·AI 반도체 등 첨단기술 특허 판단 기준 제시

선우정 기자 | 기사입력 2026/03/09 [15:20]

반도체 특허 심사 기준 공개... 지식재산처 “심사 예측 가능성 높인다”

‘반도체 특허 심사실무가이드’ 제정... EUV·HBM·AI 반도체 등 첨단기술 특허 판단 기준 제시

선우정 기자 | 입력 : 2026/03/09 [15:20]

▲ 출처=freepik  © 특허뉴스

 

반도체 기술 패권 경쟁이 치열해지는 가운데, 우리 기업들이 특허 심사 결과를 보다 예측할 수 있도록 반도체 특허 심사 기준을 체계화한 가이드라인이 처음 마련됐다.

 

지식재산처는 반도체 산업의 기술 특성을 반영한 ‘반도체 분야 특허 심사실무가이드’를 제정해 배포한다고 밝혔다. 이번 가이드는 반도체 기술 관련 특허 심사에서 빈번하게 발생하는 쟁점을 정리해 특허성 판단 기준과 실제 심사 사례를 함께 제시한 것이 특징이다.

 

최근 반도체 산업은 EUV(극자외선) 노광공정, 비정질 탄소 하드마스크, 고대역폭 메모리(HBM), AI 반도체(NPU·PIM) 등 기술 경쟁이 급속히 심화되며 미세화·집적화·고속화 기술 발전 속도가 빠르게 진행되고 있다. 이에 따라 산업계에서는 반도체 기술 특성을 반영한 특허 심사 기준이 필요하다는 요구가 꾸준히 제기돼 왔다.

 

지식재산처는 이러한 현장의 요구를 반영해 기업과 변리업계를 대상으로 설문조사를 실시했으며, 그 결과 ‘진보성 판단 기준에 대한 불만족’이 가장 높은 것으로 나타났다. 이에 따라 실제 반도체 특허 심사 과정에서 반복적으로 등장하는 사례를 분석해 특허성 판단 기준을 정리한 실무 가이드를 마련했다.

 

이번 가이드는 크게 세 가지 핵심 영역에 대한 특허 판단 기준을 제시한다.

첫째, 발명의 설명 기재요건으로 발명의 실시 가능성에 대한 판단 기준을 제시했다.

둘째, 청구범위 기재요건으로 청구항의 명확성 여부를 판단하는 방법을 담았다.

셋째, 진보성 등 특허요건으로 선행기술 결합의 용이성이나 단순 설계 변경 여부 등을 판단하는 기준을 구체적으로 설명했다.

 

특히 반도체 분야에서 자주 등장하는 PBP(Product-by-Process) 청구항, 즉 제조 방법으로 특정 물건을 정의하는 청구항의 특허성 판단 기준도 포함됐다. 이는 반도체 제조 공정 특성상 공정 자체가 기술 경쟁력의 핵심이 되는 경우가 많기 때문이다.

 

지식재산처는 이번 가이드에 실제 반도체 특허 심사 사례를 기반으로 한 다빈도 유형 분석을 포함해 산업 현장에서 실질적인 참고 자료로 활용될 수 있도록 구성했다. 이를 통해 기업과 연구기관이 특허 명세서를 작성할 때 심사 기준을 보다 명확히 이해할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

 

또한 지식재산처는 가이드를 공식 누리집을 통해 공개하고, 반도체 분야 산·학·연 관계자들을 대상으로 2026년 4월 설명회를 개최해 실무 이해도를 높일 계획이다.

 

김희태 지식재산처 반도체심사추진단장은 “이번 반도체 특허 심사실무가이드는 심사 일관성을 높이고 반도체 기업들이 고품질 특허를 조기에 확보할 수 있도록 돕는 지침서 역할을 하게 될 것”이라며 “특히 특허 전략 수립 역량이 부족한 팹리스와 소재·부품·장비 분야 중소·중견기업들에게 실질적인 도움이 될 것으로 기대한다”고 밝혔다.

 

이번 가이드는 글로벌 기술 경쟁이 치열한 반도체 산업에서 특허 심사의 투명성과 예측 가능성을 높여 기업의 지식재산 전략 수립을 지원하는 정책적 기반이 될 것으로 전망된다.

 

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