▲ 특허 기반 연구개발(IP-R&D) 특허성과 및 활용성과(자료제공=특허청)  © 특허뉴스

특허청은 반도체 등 전략기술 개발 및 원천·핵심특허 확보를 위해 국내 중소·중견기업과 대학·공공연을 대상으로 개별기관 맞춤형 ‘특허 기반 연구개발’ 전략을 지원한다고 30일 밝혔다.

특허 기반 연구개발(IP-R&D)은 특허를 R&D 출발점으로 삼아 핵심특허를 확보할 수 있는 방향으로 R&D를 수행하여 연구 효율성을 높이는 것으로, ▲해외기업 장벽특허 회피·무효화 전략 제공으로 특허분쟁 우려 없는 기술을 개발하고 ▲유용한 특허정보를 바탕으로 최적 R&D 방향을 제시해 R&D 기간·비용을 단축할 수 있다. 또한 ▲특허 공백영역을 발굴해 공백 유망기술 선점을 통한 우수특허를 확보할 수 있다.

이에 특허청은 초격차 전략기술 경쟁력 강화를 위한 ▲반도체·디스플레이 ▲이차전지 ▲수소의 3개 분야 17개 과제와, 미래기술 선점을 위한 ▲첨단모빌리티 ▲인공지능·로봇 ▲사이버보안의 3개 분야 17개 과제까지, 총 34개의 지원과제(기관)를 선정했다.

선정된 기관은 엠에이티플러스(반도체·디스플레이), 인지컨트롤스(이차전지) 등 25개 중소·중견기업과, 한국에너지기술연구원(수소), 국민대학교 산학협력단(인공지능·로봇) 등 9개 대학·공공연이다.

최근 미·중 패권다툼이 촉발한 기술주도권 확보 경쟁이 반도체를 중심으로 국가 간 기술·안보 동맹으로 번지는 가운데, 우리나라도 전략기술을 선정하고, 전략기술 확보에 국가적 역량을 집중하고 있다.

실제, 포토레지스트는 반도체 생산의 핵심소재임에도 90% 이상 수입에 의존해 왔다. A사는 ‘특허 기반 연구개발’ 전략을 통해 기존 특허들로부터 도출된 최적 성분조합 후보를 활용하여 EUV 포토레지스트 개발을 앞당길 수 있었다. 또한 B사는 일본의 수출규제를 극복하기 위해 고순도 불화수소 공정기술 개발이 시급한 상황이었다. ‘특허 기반 연구개발’ 전략을 통해 장벽특허 침해에 대한 불확실성을 해소하였고, 핵심특허 2건을 확보하였으며, 정제기술 개발 방향을 정립하여 결국 고순도 불화수소 국산화에 성공하였다.

특허청의 이번 지원은 정부의 전략기술에 대한 연구개발투자 기조에 맞춰 국가안보, 공급망, 신산업 등의 관점에서 중요하다고 선정된 6개 기술분야 연구개발 효율화를 위해 마련되었다.

이번에 선정된 34개 기관에 대해서는, 특허전략 전문가와 특허분석기관으로 구성된 전담팀이 5.2억여건의 특허 빅데이터를 심층 분석하여 장벽특허 대응전략, 최적 연구개발 방향, 우수특허 확보방안 등 종합적인 맞춤형·밀착형 특허전략을 제공할 계획이다.

특허청의 ‘특허 기반 연구개발’ 전략지원을 받은 과제에서 창출된 특허기술은, 일반 연구개발 과제에서 창출된 특허기술과 대비해 산업계 활용가치가 높았다. 지난 5년간(’16 ~ ’20년) 우수특허·해외특허 등 질적 특허성과는 1.7~2.1배, 특허이전율은 1.3배, 기술이전 계약당 기술료는 3.9배의 성과를 나타냈다.

이를 통해 이번 지원도 국내 중소·중견기업과 대학·공공연의 전략기술분야 원천·핵심특허 확보에 기여할 것으로 기대된다.

정연우 특허청 산업재산정책국장은 “반도체 등 전략기술의 확보는 국가 경쟁력 나아가 국가 존립에 직결되는 문제”라며 “소부장·백신 위기 극복에 도움이 되었던 ‘특허 기반 연구개발’ 전략을 전략기술분야로 확대하여 글로벌 경쟁력을 확보할 수 있도록 지원해 나가겠다”고 밝혔다.